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Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond

Produktform: E-Buch Text Elektronisches Buch in proprietärem

Verlag: Springer Singapore, 115 Seiten

Elektronisches Format: PDF

Erscheinungsdatum: 20.09.2019

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Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond

Produktform: Buch / Einband - fest (Hardcover)

Verlag: Springer Singapore, Auflage 1, 115 Seiten

Erscheinungsdatum: 02.10.2019

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Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond

Produktform: Buch / Einband - flex.(Paperback)

Verlag: Springer Singapore, Auflage 1, 115 Seiten

Erscheinungsdatum: 02.10.2020

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