Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond
Produktform: E-Buch Text Elektronisches Buch in proprietärem
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Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond
Produktform: Buch / Einband - fest (Hardcover)
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Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond
Produktform: Buch / Einband - flex.(Paperback)
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