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Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses

Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect Technology

Produktform: Buch / Einband - fest (Hardcover)

Sprache(n): Englisch

ISBN: 978-1-4020-7193-5 / 978-1402071935 / 9781402071935

Verlag: Springer US

Erscheinungsdatum: 30.09.2002

Seiten: 229

Auflage: 1

Autor(en): Ronald J. Gutmann, Christopher Lyle Borst, William N. Gill

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