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Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses

Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect Technology

Produktform: Buch / Einband - flex.(Paperback)

Sprache(n): Englisch

ISBN: 978-1-4613-5424-6 / 978-1461354246 / 9781461354246

Verlag: Springer US

Erscheinungsdatum: 23.02.2014

Seiten: 229

Auflage: 1

Autor(en): Ronald J. Gutmann, Christopher Lyle Borst, William N. Gill

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