Noch Fragen? 0800 / 33 82 637

Artikel empfehlen

Chemical-Mechanical Polishing of Low Dielectric Constant Polymers and Organosilicate Glasses

Fundamental Mechanisms and Application to IC Interconnect Technology

Produktform: E-Buch Text Elektronisches Buch in proprietärem

Elektronisches Format: PDF

Sprache(n): Englisch

ISBN: 978-1-4615-1165-6 / 978-1461511656 / 9781461511656

Verlag: Springer US

Erscheinungsdatum: 27.11.2013

Seiten: 229

Autor(en): Ronald J. Gutmann, Christopher Lyle Borst, William N. Gill

149,79 € inkl. MwSt.
Recommended Retail Price
kostenloser Versand

lieferbar - Lieferzeit 10-15 Werktage

zurück