Dieses Handbuch behandelt alle Aspekte der CVD von Nichtmetallen, vom Reaktoraufbau und der Wahl eines geeigneten Precursors bis zur Anwendung der Filme. Physikalische Grundlagen und Reaktoraufbau werden im ersten Kapitel auch für Nichtexperten anschaulich beschrieben. Im folgenden werden die chemischen Strukturen der Vorläufer sowie Reaktionskontrolle für verschiedene Materialien, darunter Isolatoren, Halbleiter, Supraleiter, Verbundwerkstoffe und Strukturmaterialien diskutiert. Grenzen und Möglichkeiten sowie die Rentabilität der Methode werden jeweils von führenden Experten kritisch behandelt. Dieses umfassende Nachschlagewerk, das über 1400 Literaturstellen und einem Glossar enthält, ist für Chemiker, Physiker, Ingenieure und Materialwissenschaftler, die sich mit der Anwendung von ultradünnen Schichten befassen, unentbehrlich. weiterlesen