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Einflussfaktoren auf die Emissionseigenschaften einer EUV Strahlungsquelle im Langzeitbetrieb

Produktform: Buch

Für die Weiterentwicklung der EUV-Lithographie werden kompakte und langzeitstabile EUV-Strahlungsquellen für Forschungs- und Entwicklungsarbeiten benötigt. In dieser Arbeit wird eine EUV-Strahlungsquelle auf Basis einer Gasentladung – dem hohlkathodengetriggerten Pinchplasma – bezüglich der im Langzeitbetrieb relevanten Einflussfaktoren untersucht. Signifikante Verbesserungen der Leistungsfähigkeit werden demonstriert und ein technologischer Ausblick vorgestellt.weiterlesen

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Sprache(n): Deutsch

ISBN: 978-3-86359-859-4 / 978-3863598594 / 9783863598594

Verlag: Apprimus Verlag

Erscheinungsdatum: 11.05.2020

Seiten: 146

Auflage: 1

Autor(en): Jochen Vieker

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