In Jena hat die Elektronenstrahl-Lithographie eine erfolgreiche Entwicklung genommen. Nach 1990 verschärften sich die Wettbewerbsbedingungen. Andererseits war die Teilnahme am internationalen Gedanken- und Ideenaustausch deutlich leichter möglich als vorher. Zahlreiche Neuerungen sicherten die technische und kommerzielle Attraktivität der Geräte, die unter den Namen ZBA 31/32, SB250,SB350,SB3050 den Weg in viele Halbleiterfertigungszentren, Maskshops und Forschungszentren der Welt fanden.weiterlesen